隨著國(guó)內(nèi)生產(chǎn)技術(shù)水平的提高，薄膜技術(shù)也在不斷地發(fā)展改進(jìn)，一直到目前為止，市場(chǎng)上的薄膜種類也越來(lái)越多，且大部分薄膜產(chǎn)品都向著環(huán)保等優(yōu)勢(shì)目標(biāo)前進(jìn)。接下來(lái)，我們了解下關(guān)于薄膜的二氧化鈰的應(yīng)用參數(shù)說(shuō)明。

    名稱：二氧化鈰(CeO2)

    使用高密度的鎢舟皿(較早使用)蒸發(fā)，在200℃的基板上蒸著二氧化鈰，得到一個(gè)約為2.2的折射率，在大約3000nm有一吸收帶其折射率隨基板溫度的變化而發(fā)生顯著變化，在300℃基板500nm區(qū)域折射率為2.45，在波長(zhǎng)短過(guò)400nm時(shí)有吸收，傳統(tǒng)方法蒸發(fā)缺乏緊密性，用氧離子助鍍可取得n=2.35(500nm)的低吸收性薄膜，一般為顆粒狀，還可用一增透膜和濾光片等。

    透光范圍(nm) 折射率(N) 500nm 蒸發(fā)溫度(℃) 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量400--16000 2.35 約2000 電子槍 防反膜。

    名稱：氧化鎂(MgO)

    必須使用電子槍蒸發(fā)因該材料升華，堅(jiān)硬耐久且有良好的紫外線(UV)穿透性，250nm時(shí)n=1.86，190nm時(shí)n=2.06， 166nm時(shí)K值為0.1， n=2.65?？捎米髯贤饩€薄膜材料。MGO/MGF2膜堆從200nm---400nm區(qū)域透過(guò)性良好，但膜層被限制在60層以內(nèi)(由于膜應(yīng)力)500nm時(shí)環(huán)境基板上得到n=1.70。由于大氣CO2的干擾，MGO暴露表面形成一模糊的淺藍(lán)的散射表層，可成功使用傳統(tǒng)的MHL折射率3層AR膜(MgO/CeO2/MgF2)。

    強(qiáng)輝包裝提醒大家：在采購(gòu)薄膜一定要向供應(yīng)商說(shuō)明該膜的用途和要求，薄膜品種細(xì)化，光說(shuō)PET，NY，BOPP名字，供應(yīng)商就可能有好幾個(gè)品種，但不一定都適合。